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    光彈調制器

    簡要描述:Hinds Instruments, Inc公司是世界有名的(同時也是世界*的一家)(photoelastic modulators)生產商。Hinds Instruments公司的PEM光彈調制器可以控制光束的偏振狀態的改變,調制速率為20~100kHz。

    • 產品型號:
    • 廠商性質:代理商
    • 更新時間:2021-06-02
    • 訪  問  量:3264
    詳細介紹
    產地類別進口

    光彈調制器

    美國Hinds Instruments, Inc公司是世界有名的(同時也是世界*的一家)光彈調制器(photoelastic modulators)生產商。Hinds Instruments公司的PEM可以控制光束的偏振狀態的改變,調制速率為20~100kHz。(PEM)的作用就像一個“動態的波片”,可以使快軸和慢軸之間產生一個周期變化的折射率差,從而控制透過光束的偏振進行周期性的變化。具體而言即,(photoelastic modulators)通過對線偏振光添一定的相位使輸出光在圓偏振、橢圓偏振、線偏振等狀態之間井進行變化,同時(PEM)還可以使光在左旋、右旋兩種狀態之間進行切換。

    對比聲光調制器、電光調制器、液晶調制器的*之處包括:

     

    ?    非常大通光孔徑(15到30mm,標準),同時保持很高的調制器頻率

    ?    超大接受角度(市場角)范圍(+/- 20°)

    ?    波長覆蓋范圍大(170nm~10um,FIR~THZ)

    ?    高損傷閾值

    ?    可精確控制相位延遲

     

    美國Hinds Instruments, Inc公司PEM電學和光學頭封裝在不同的部件中。這樣能夠zui小化光學系統單元的尺寸,同樣也使得光學頭與磁場或真空兼容(當這些有需要的時候)。

     

    需要進一步了解關于原理,請點擊這里

     

    應用舉例:

    在偏振方向調制中的應用介紹.pdf

     

    Hinds Instruments主要分為兩個系列:

     

    Series I 系列使用矩形光學原件,波長覆蓋紫外、可見光和紅外至1或者2um。

    Series II系列使用對稱或者八角形的光學原件,波長覆蓋可見和紅外(到中紅外)頻譜區域。特殊的型號可用于紫外。

     

    Hinds Instruments公司的光學頭使用不同的光學材料,材料的選取主要取決于儀器頻譜透射率的需要。表1列出了通常使用的材料。

     

     

    TABLE 1

     

     

    SPECTRAL REGION

    SERIES

    MATERIAL

    Vacuum UV, UV

    I

    Lithium Fluoride

    Vacuum UV to mid-IR

    I,II

    Calcium Fluoride

    Vacuum UV to near-IR

    I,II

    Fused Silica

    Mid-visible to mid-IR

    II

    Zinc Selenide

    Near- to mid-IR

    II

    Silicon

     

     

    相對于Series II八角形光學元件,Series I矩形的光學元件在相同厚度的情況下,相位延遲量更少。在紅外波段,這是一個缺點,但是在紫外波段,尤其是真空紫外,這則變成為了一個很大優點。

     

    八角形(Series II)光學元件在給定的厚度下更加的有效率,因此在紅外波段有更多的優勢。使用Series II操作低延遲量(例如:深紫外)或許會造成一些問題。

     

     

    可選選項(規格和價格會因為客戶需要而改變,詳情詢問昊量光電的工程師)

     

    • ?    增透膜,Model ARC。防反射膜可用于任何光學調制器上,窄帶寬和寬帶寬鍍膜都可得。
    • ?    請昊量光電關于頻譜范圍和透射率要求
    • ?    無干涉選項,Model NIO。這一項用于偏轉光束路徑,因此消除了調制器干涉
    • ?    特殊頻率,Model SFO。標準的調制頭配以特殊頻率
    • ?    特殊光學頭/電學頭電纜,Model SLHH
    • ?    特殊調制頭附件,Model SHE。光學頭可以根據客戶需要提供特殊形狀
    • ?    真空操作。PEM可用于真空環境,詳情請詢問Hinds
    •            磁場兼容選項,Model MFC。光學頭不含任何磁鐵材料,用于強磁場中

      基本指標

     

    Model

    Optical Material

    Nominal

    Frequency

    Retardation Range

    Useful

    Aperture1

    Quarter Wave

    Half Wave

    I/FS50

    Fused Silica

    50 kHz

    170nm - 2μm

    170nm - 1μm

    16mm

    I/FS20

    Fused Silica

    20 KHz

    170nm - 2μm

    170nm - 1μm

    22mm

    I/CF50

    Calcium Fluoride

    50 kHz

    130nm - 2μm

    130nm - 1μm

    16mm

    II/FS20A

    Fused Silica

    20 kHz

    170nm - 2μm

    170nm - 1μm

    56mm

    II/FS20B

    Fused Silica

    20 kHz

    1.6μm - 2.6μm

    800nm - 2.5μm

    56mm

    II/FS42A

    Fused Silica

    42 kHz

    170nm - 2μm

    170nm - 1μm

    27mm

    II/FS42B

    Fused Silica

    42 kHz

    1.6μm - 2.6μm

    800nm - 2.5μm

    27mm

    II/FS47A

    Fused Silica

    47 kHz

    170nm - 2μm

    170nm - 1μm

    24mm

     

    II/FS47B

    Fused Silica

    47 kHz

    1.6μm - 2.6μm

    800nm - 2.5μm

    24mm

    II/FS84

    Fused Silica

    84 kHz

    800nm - 2.5μm

    400nm - 2.5μm

    13mm

    II/IS42B

    Fused Silica

    42 kHz

    1.6μm - 3.5μm

    800nm - 2.5μm

    27mm

    II/IS84

    Fused Silica

    84 kHz

    800nm - 3.5μm

    400nm - 1.8μm

    27mm

    II/CF57

    Calcium Fluoride

    57 kHz

    2μm - 8.5μm

    1μm - 5.5μm

    23mm

    II/ZS37

    Zinc Selenide

    37 kHz

    2μm - 18μm

    1μm - 9μm

    19mm

    II/ZS50

    Zinc Selenide

    50 kHz

    2μm - 18μm

    1μm - 10μm

    14mm

    II/SI40

    Silicon

    40 kHz

    FIR - THz

    FIR - THz

    36mm

    II/SI50

    Silicon

    50 KHz

    FIR - THz

    FIR - THz

    29mm

     

    美國Hinds Instruments, Inc公司相關文獻請參考:http://www.auniontech。。com/n/document/v_Paper_of_Hinds.html

     

    光彈調制式反射差分光譜儀的理論分析.pdf

    在偏振方向調制中的應用.pdf

    應用的Mueller矩陣分析.pdf

    式多通道反射差分光譜技術.pdf

    定標新方法.pdf

    光彈調制差分反射分析系統的建立與應用.pdf

    使用測量D-丙氨酸單晶低溫變溫光學性質的研究.pdf

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